目前在各種真空鍍膜設備上所配用的真空系統不但結構各不相同，而且系統的抽氣特性也隨其工作對象的不同而有很大的差別.歸納起來主要有如下幾種系統:

(1)通用真空系統 系統的主泵是油擴散泵，泵上方設有水冷擋板(阱)，主泵的前級泵為機械泵。這種系統的工作壓強在10-2~10-4pa的范圍內.

(2)超高真空系統 在上述真空系統中加裝液氮冷阱或鈦泵.就可以使鍍膜室真空度提高到10-6Pa以上.從而得到超高真空系統.由于該系統仍采用油擴散泵，所以還是有油的系統。

無油超高真空鍍膜機配備無油超高真空機組.CWD-500型配備的機組是三極式:以冷陰極濺射離子泵(JLP-400型)為主泵，鈦升華泵(ST-0.1型)為輔助泵.并以SP-40型分子篩吸附泵作為系統的粗抽泵。系統還帶有CT-200型內裝式插板閥以及全套前級真空管路、烘烤裝置等.為使烘烤時便于排氣或快速抽氣.機組還可以用一套機械泵加吸附裝置作為輔助前級泵。機組的極限真空可達6.7×10-8 Pa,在1h內可從大氣壓下抽到1×10-5Pa.

鍍膜機采用分子泵系統可以獲得十分清潔的真空.有利于膜質量的提高。分子泵抽速很大，可以縮短工藝周期。譬如用1200L·s-1的分子泵在直徑500mm的普通式高真空鍍膜機上進行抽空，從大氣抽到3×10-4Pa只需要18min，可見，其效果是顯著的.

(3)制冷機低溫泵系統 使用低溫泵抽氣系統的真空鍍膜設備具有一系列優(yōu)點:無選擇性氣體、無碳氫化合物污染、具有較大的抽氣速率、可以獲得較低的極限壓力、操作簡單、運行維護方便.